超高真空高精度冷却試料マニピュレータ　i-GONIO 独立行政法人 産業技術総合研究所との共同研究により、超高真空中での分析において 試料の低温化と三次元角度制御の両立を目指し、新たな「UHV 高精度冷却試料三次元 角度制御ステージ」を開発しました。 試料の低温化と三次元角度制御の両立が可能であることを立証し、開発を進めることに より完成しました。 i-GONIO が、研究開発のスピードアップと今後より複雑となって行くであろう最先端の 理化学分野において、重要なパートナーとしてきっとお役に立つでしょう。 冷却方式 LHe フロー方式 ヒーター 低温コントロールヒーター内蔵 対磁性 完全非磁性 バイアス印加 サファイヤフローティング（オプション） 全シリーズがサンプルトランスファー対応 ◆ 多様なサンプルホルダー形状に対応可能 ◆ 導入内径φ58mm のコンパクト設計 ◆ 複数個のサンプルホルダーに対応 ステージ構成 固定2 段ステージ（ステージ段数選択可能） 冷却到達温度 7K（2 段ステージ構成/ フローティング有） 輻射シールド 開閉式シールド ◆ チルト型ステージで最高の到達冷却能力 ◆ 固定/ チルト複合型ステージが可能 ステージ構成 チルト回転（2 段ステージの場合は上段が固定 冷却到達温度 チルトステージ　10K（2 段ステージ構成） 固定ステージ　 7K チルト範囲 -5°～ 60° 角度分解能 0.05°（片押し時） 輻射シールド 開閉式シールド ◆ 面内回転型ステージで最高の到達冷却能力と角度分解能 ステージ構成 面内回転 冷却到達温度 9K 面内範囲 ±90° 角度分解能 0.1°（片押し時） 輻射シールド 固定シールド ◆ 左右対称設計のため、トランスファー方向光入射方向が自由 ステージ構成 チルト回転 冷却到達温度 12K チルト範囲 -5°～ 60° 角度分解能 0.05°（片押し時） ◆ X/Y/Z/θステージとの組み合わせにより6軸タイプマニピュレーターに対応 ステージ構成 チルト回転/ 面内回転 冷却到達温度 12K チルト範囲 -5°～ 60° 面内範囲 ±90° チルト角度分解能 0.05°（片押し時） 面内角度分解能 0.2° （ 片押し時）