卓上型ZnOナノロッド合成装置
MPZNOシリーズ
亜鉛原料を低圧大気中で蒸発させながら、加熱された基板
（シリコン・サファイア）上に酸化亜鉛ナノロッドを成膜する装置。
基板に垂直配向ナノロッドの生成も可能。
準配向ZnOナノロッド/si
準配向ZnOナノロッド/si
準配向ZnOナノロッド/sapphire
本体
パイレックス製チャンバー
パージガス導入ライン
排気ポンプライン
リークライン
真空計
電流導入端子ポート
外形寸法
φ160㎜×H125㎜
1ライン
1ライン
1ライン
ブルドン管真空計：1台
2対
W400mm×H230mm×D265mm
基板加熱用ヒーター
面積
常用温度
25mm×40mm
400～750℃
電源（2台）
定格出力電流
定格出力電圧
動作電源
外形寸法
40A
400W
AC90-250 単相50-60Hz
W110mm×H130mm×D405mm
排気ポンプ
ロータリーポンプ
オプション
放射温度計・各種安全機構
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