簡易プラズマCVD装置 823MNK RFプラズマにより簡易的にプラズマCVD成膜が行えます。 成膜室 チェンバー バッチ式　φ159×95 RF機構 300W出力 / 自動制御システム サンプルサイズ φ2inch以下 排気系 RP 250l/min ガス導入系 ニードルバルブ流量計制御 バタフライバルブ排気コンダクタンス制御 圧力モニター：バラトロン / コンベクトロン