真空脱ガス処理の特長
真空脱ガス処理は、真空容器（チェンバー）や部品等を真空中で熱処理し、実際にご使用になる時の真空容器内壁面や内部部品素材からのガス放出を抑え、良好な真空環境を実現するための処理です。
弊社の真空脱ガス処理は、大型ステンレス製UHVチェンバーにTMP（3200L／sec）＋ルーツドライポンプ（1000L／min）を搭載した完全オイルフリー排気系により、Qmassによる残留ガス分析の管理下で真空脱ガス処理を行います。処理されるすべての製品は高品質精密脱脂洗浄を施し高品質の処理を致します。
さらに、マグネットフィードスルー、マニピュレータ、XYステージなどVacstage製品の真空脱ガス処理も行うことにより、より良好な真空実験環境を御提供します。到達真空度E
-9Pa～E
-10Pa台を要求されるチェンバーには、立上時のベーク温度の低下や時間の
短縮ができ、XHV・UHVチェンバーには最適な処理となります。
真空ベーク炉仕様
| 有効寸法 |
W750xD1250xH750(mm)以下 |
| ベーク処理温度 |
≦450℃（溶接ベローズ製品≦250℃） |
| 加熱時間 |
450℃－10時間 ～24時間(オプション) |
| 温度制御 |
プログラマブル温度調節器 |
| 冷却方式 |
自然冷却 |
| パージガス |
Ar（アルゴン） |
到達真空度
加熱処理中の真空度 |
10-7Pa台
5.0x10-5Pa以下 |
| 排気系 |
ターボ分子ポンプ（3200L／sec）
ルーツドライポンプ（1000L／min） |
装置概要（DA0147）
| チェンバー容積 |
約8L
(SUS316 複合電解研磨＋450℃/10ｈ真空脱ガス処理) |
| 排気系 |
300 L/sec(TMPポンプ)＋ 90L/min(スクロールポンプ)
100L/sec (イオンポンプ)＋ 2000L/sec(ゲッターポンプ) |
| ベーキング |
150～220℃（72時間） |
| 到達真空度 |
6.6x10-10Pa（イオンポンプ+ゲッターポンプ排気） |
| 残留ガス |
 |
外観・及び仕様等は品質向上のため、予告無く変更になることがあります。ご了承下さい。 |
