研究開発用小型MBE装置 RD0002 半導体薄膜作製、太陽電池用薄膜作製の研究開発に最適な装置です。 弊社の超高真空技術によりクリーンな環境下で、ご希望の薄膜作製が可能です。 ロードロック室を搭載しておりますので、真空を破ることなく基板搬送が可能です。 また、オプションにより各種蒸発源や各種モニター等を選択することで、高精度なリアルタイム解析が可能な小型MBE装置です。 　　成膜室　(極高真空対応脱ガス処理) 蒸着源ポート 8ポート 基板サイズ ～3inch (基板は回転機構付き) *基板加熱・冷却はオプション 成膜室到達真空度 10-9Pa台 成膜室排気系 IP / TSP 付き *オプションでLN2シュラウド搭載可能 　　ロードロック室　(省スペース角形チェンバー) 基板搬送 超高真空トランスファー機構 ロードロック室排気系 300l/s 磁気浮上型 TMP・SP 　　蒸発源 (オプション) K-cell 蒸発源 (高温・SUMO型・バルブクラッカー型) EB蒸発源 プラズマガスソース 　　リアルタイム解析 (オプション) RHEED装置 + kSA400解析システム 高精度温度モニター BandiT 薄膜歪み・応力モニター MOS